光學(xué)顯微鏡鍍膜的原理是高能離子或原子轟擊某金屬靶，并把自己的動(dòng)量轉(zhuǎn)給靶中的原子，后者得到足夠的能量時(shí)就有可能脫離與相鄰原子的結(jié)合，由靶中逸出。這些被釋放出的原子(或原子團(tuán))沉積在樣品表面形成了一連續(xù)的導(dǎo)電覆蓋層。

奧林巴斯顯微鏡通常濺射過程是伴隨輝光放電而產(chǎn)生。

輝光放電是一種氣體放電。

如果一個(gè)容器中有兩個(gè)電極，極間充有悄性氣體，將這兩電極間加直流電壓(1---3k V)，在某種外來因素(如陰極表面受短波輻波等)作用下，使陰極產(chǎn)生電子并飛向陽極。在電子向陽極運(yùn)動(dòng)時(shí)，尼康顯微鏡不斷和氣體分子碰撞而產(chǎn)生正離子和自由電子，正離子在電場作用下向陰極運(yùn)動(dòng)時(shí)也不斷和氣體分子碰撞又產(chǎn)生電子和正離子。

當(dāng)極間的離子與電子足夠多時(shí)，電流突然增大，電壓值下降，這相當(dāng)于電極間電阻變小，空氣成了導(dǎo)體。當(dāng)大量正離子轟擊陰極表面時(shí)，尼康顯微鏡將足夠的能量交給金屬陰極的某些原子(或原子團(tuán))，后者便脫離表面向外“飛出”。這些“飛出”的原子或原子團(tuán)在與殘余氣體分子反復(fù)撞擊后，便由四面八方附著在樣品表面.如果它們還有足夠多的能量，光學(xué)顯微鏡則到達(dá)待搜蓋樣品的表面時(shí)有可能射入1-2個(gè)原子層的深度。

奧林巴斯顯微鏡金屬原子在樣品表面的沉積速度與許多因素有關(guān).首先，轟擊金屬陰極靶的氣體離子能量增加時(shí)濺射出的金屬原子能量也增大。其次，容器中的氣體壓強(qiáng)增大或放電電流密度增高時(shí)，氣體正離子數(shù)量和密度也增大。第三，顯微鏡價(jià)格樣品與金屬靶的距離越近，沉積速度越大，但過度接近會(huì)使樣品受熱，一方面損傷標(biāo)本，同時(shí)氣體中的雜質(zhì)也影響沉積速度。

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